品牌:CRF | 型号:CRF-APO-8L | 规格:450*450*400mm |
温等离子废气处理设备 等离子电源 低温等离子 高压等离子
清洗原理:
等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。在真空腔体里,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面.以达到清洗目的.
公司简介:
深圳诚峰智造(CRF)有限公司(CRF)科技按照***设计建造综合型生产基地。厂址位于深圳沙井孖宝工业区。公司拥有一批专业等离子研发人员,并特设等离子实验室,全面配合客户完善每次试验。长期以来,公司与中科院;中国等离子技术研究所及国内重点院校进行合作,坚持自主创新与国外新技术相结合,全力打造CRF PLASMA 为等离子技术***。多年来,我们团队坚持以品质为立足之本,诚信为经营之道,以创新为发展之源,以服务为价值之巅。在技术上精益求精,坚持综合全球资源,不断研发新技术为导向。目前已同国内外众多***企业建立了长期稳定的合作关系。以满足客户不同需求为原则,长期以来深受众多客户信赖及支持
源于美国and德国30年plasma生产制造及研发技术,CRF诚峰智造,现已成为中国***的等离子处理系统解决方案供应商,专业的售后客服让您没有***
设备性能及特点:
1.超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,***的控制设备运行。
2.可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需要.
3.保养维修成本低,便于客户成本控制
4.高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持
用途:适用于印制线路板行业,半导体IC领域,硅胶,塑胶,聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等,印制线路板行业,高频板表面活化,多层表面清洁,去钻污,软板,软硬补强前活化,半导体IC领域:COB COG COF ACF工艺,用于打线,焊接前的清洗,硅胶,塑胶,聚合体的表面粗化,刻蚀,活化
设备主要参数:
型号 | CRF-VPO-8L |
控制系统 | PLC+触摸屏 |
电源 | 380V/AC,50HZ,3KW |
射频电源功率 | 500W/13.56MHZ |
容量 | 80L |
层数 | 8 |
有效处理面积 | 400L*300W |
气体通道 | 两路工作气体可选:Ar,N2.H2.CF4.O2 |
设备实拍图片: